第594章【紫星光刻，准备曝光它吧】

极紫外光刻技术的另一大瓶颈无疑就是光刻胶了。

　　目前的行业现状是，半导体材料的供应都是十分集中的，而光刻胶技术算是全球集中度最高，并且壁垒也是最高的材料，被日本和北美合计占领了95%的市场份额。

　　三星电子半导体固然牛气哄哄，也却是很有实力，但实际上得看日本人的脸色，如果日本的半导体材料商在材料这块卡一下，三星半导体就要趴窝。

　　休息室里正在进行临时的技术交流探讨，一位负责光刻胶技术的工程师有条不紊的说道：“在248纳米和193纳米的光刻中，主流有超过二十年之久都是使用有机化学放大光刻胶CAR，这是一种用来制作图案成型的光敏聚合物。”

　　在极紫外光刻机下，光子专机CAR光刻胶并产生光酸，之后CAR光刻胶在曝光后的过程中进行光酸催化反应，进而产生光刻图案。

　　原理就是这么个原理。